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        為什么電鍍填孔容易出現(xiàn)孔內(nèi)空洞?

        2025
        09/08
        本篇文章來自
        捷多邦

        一、什么是電鍍填孔中的“空洞”

        PCB制造的電鍍填孔過程中,目標(biāo)是通過電解銅逐步把過孔、盲孔或埋孔內(nèi)部完全填滿。但在實(shí)際生產(chǎn)中,經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)“孔內(nèi)局部沒有銅沉積”的情況,形成微小空隙或氣泡狀缺陷。這種現(xiàn)象被稱為孔內(nèi)空洞(Void)。它會(huì)嚴(yán)重影響電氣連續(xù)性和熱傳導(dǎo)能力,甚至導(dǎo)致長期可靠性下降。

         

        二、孔內(nèi)空洞的主要成因

        氣體或液體殘留

        在電鍍前,孔內(nèi)如果殘留清洗液、氣泡或助焊殘?jiān)?,電鍍?nèi)芤簾o法充分進(jìn)入,導(dǎo)致該區(qū)域沒有銅沉積,從而形成空洞。

        特別是在高深徑比(Aspect Ratio)的微盲孔或通孔中,這種情況更為常見。

         

        電流分布不均

        電鍍過程中,電流趨向于集中在孔口位置,而孔底部電流密度不足,銅離子沉積速度慢。

        若控制不當(dāng),可能出現(xiàn)“邊緣鍍厚、中心未填”的現(xiàn)象,進(jìn)而形成孔底或孔中部空洞。

         

        添加劑分布問題

        電鍍液中含有光亮劑、整平劑、填孔添加劑等化學(xué)組分。

        若添加劑在孔內(nèi)擴(kuò)散不足或被消耗不均,會(huì)導(dǎo)致局部鍍層缺陷,形成氣孔或空洞。

         

        前處理不徹底

        孔壁殘留鉆污、膠渣或氧化物,會(huì)阻礙銅離子沉積。

        即使后續(xù)電鍍進(jìn)行,孔內(nèi)也可能留下微小未覆蓋區(qū)域,逐漸演變?yōu)榭斩础?/span>

         

        工藝窗口控制不穩(wěn)

        溫度、電流密度、攪拌強(qiáng)度、溶液循環(huán)等參數(shù)稍有偏差,就可能造成沉積不均勻。

        尤其在多層板或HDI批量生產(chǎn)中,這類不穩(wěn)定因素更容易放大,導(dǎo)致孔內(nèi)缺陷。

         

        三、孔內(nèi)空洞對(duì)可靠性的影響

        電氣性能下降:空洞導(dǎo)致局部導(dǎo)通路徑不足,阻抗不穩(wěn)定,甚至出現(xiàn)開路。

        熱傳導(dǎo)受限:電鍍填充的銅具有良好導(dǎo)熱性,一旦出現(xiàn)空洞,熱量無法及時(shí)傳遞,局部容易產(chǎn)生熱點(diǎn)。 

        機(jī)械強(qiáng)度不足:在盲孔疊孔(Stacked Via)結(jié)構(gòu)中,空洞會(huì)成為應(yīng)力集中點(diǎn),易在熱循環(huán)或機(jī)械應(yīng)力下發(fā)生裂紋。

         

        電鍍填孔之所以容易出現(xiàn)孔內(nèi)空洞,歸根結(jié)底是孔內(nèi)環(huán)境復(fù)雜、填充難度高。這不僅涉及化學(xué)、物理和電化學(xué)反應(yīng),還與設(shè)計(jì)的深徑比、孔徑大小直接相關(guān)。只有通過優(yōu)化前處理、電鍍工藝及藥液管理,才能有效降低空洞風(fēng)險(xiǎn),從而提升PCB在高密度互連和高可靠性應(yīng)用中的穩(wěn)定性。


        the end