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        從PCB制造到組裝一站式服務(wù)

        堿性蝕刻技術(shù)的過程及工藝原理

        2013
        03/07
        本篇文章來自
        捷多邦
          蝕刻是利用干膜、濕膜、錫層、鎳金屬層的抗蝕性能來保護有效圖形部分,通過堿性氯化氨銅溶液蝕去無抗蝕層保護的銅面,然后再根據(jù)板的種類以不同處理方法退除抗蝕層,得到所需的圖形線路。
          1內(nèi)層工藝流程
          蝕刻→子液清洗→水洗→退膜→水洗→防氧化→水洗→烘干
          2銅錫板工藝流程
          退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→退錫
          →水洗→烘干→接板
          3鎳金板工藝流程
          退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→酸洗
          →水洗→烘干→接板
          4簡單工藝原理
          蝕銅反應(yīng):在蝕刻過程中,板面上的銅被蝕刻液中的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子氧化,其反應(yīng)如下:
          Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl
          再生反應(yīng):(1)所生成的[Cu(NH3)2]1+為Cu1+的絡(luò)離子,不具有蝕刻能力,在有過量NH3和Cl-的情況下,能很快被空氣中O2氧化,生成具有蝕刻能力的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子,完成再生反應(yīng)。
          2Cu(NH3)2Cl+2 NH4Cl+2 NH3+1/2 O2→2 Cu(NH3)4Cl2+H2O
        the end